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Reinstwasserproduktion

Reinstharz für Halbleiter und Kernkraft
Reinstwasser bezieht sich theoretisch auf Wasser mit einem spezifischen Widerstand von mehr als 18 MΩ * cm (25 ° C) oder nahe 18,3 MΩ * cm (25 ° C). Neben Wassermolekülen enthält dieses Wasser fast keine Verunreinigungen und es gibt keine organischen Substanzen wie Bakterien, Viren und chlorhaltige Dioxine.

Hochreines Wasser wird hauptsächlich zur Entwicklung ultrareiner Materialien wie Halbleiter-Originalmaterialien, nanofeinen Keramikmaterialien und Wasser für die Kernkraftindustrie verwendet.

Ein solches Wasser ist im allgemeinen Verfahren schwer zu erreichen. Theoretisch kann es durch zweistufige Umkehrosmose und dann durch eine Reihe von Polierungen mit gemischtem Austauschharz behandelt werden.

Hochreines Wasser wird derzeit hauptsächlich in der Halbleiterindustrie und der Nuklearindustrie verwendet.
In der Elektronikindustrie wird von der Reinigung verschiedener elektronischer Komponenten bis zur Herstellung einer Reihe von Prozesslösungen hochwertiges reines Wasser benötigt, insbesondere für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und integrierten Großschaltungen. Ultra-pure wird in fast jedem Wasserreinigungsprozess verwendet. Reinstwasser, das mit einem Harz von elektronischer Qualität hergestellt wird, erfordert grundsätzlich einen Widerstand von 15 MΩ * cm (25 ° C) oder mehr.

Die Wasseraufbereitung von Kernkraftwerken unterscheidet sich grundlegend von der in normalen Kraftwerken. In Kernkraftwerkskreisläufen und in Umgebungen, in denen alle Aktivitäten eliminiert werden müssen, ist es unbedingt erforderlich, dass das verwendete Harz keine Ionen oder Substanzen freisetzt, die Niederschlag und Korrosion verursachen können. Daher muss das Harz mit Kernqualität eine extrem hohe Stabilität aufweisen, einen sehr hohen Regenerationsgrad erreichen und eine sehr hohe Reinheit aufweisen.

Reinstwasser, das aus Harz mit Kernqualität hergestellt wird, erfordert grundsätzlich einen Widerstand von 18 MΩ * cm (25 ° C) oder mehr.

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